企业简介

大连华邦化学有限公司于年由多位催化与气体纯化专家与联合成立的国家高新技术企业，注册资本万元。华邦化学与多家科研单位建立了科研合作，主要从事超纯气体纯化技术的研制与开发。

大连华邦化学有限公司（HPC）超纯技术团队从20世纪60年代在国内率先从事超纯气体分析和制备领域的研究，拥有催化剂、吸附剂、Getter等气体纯化材料的核心技术及研发能力，掌握核心工艺，并将应用在所生产的的纯化器之中。华邦科研团队致力于气体纯化技术研究60年，掌握催化剂、工艺、自控等气体纯化核心技术，自主研发9N氮、氢、氧、氩、氦、XCDA、氨气、二氧化碳纯化器，可为用户提供完善的N?、H?、O?、Ar、He、XCDA、NH?、CO?超纯气体解决方案，并成功应用于大连、上海、北京、合肥、武汉、无锡、淮安、广州等地，多条12英寸产线，以及数十条6～8英寸、TFT、LED、IGBT等产线，并可投资为客户提供超纯气体现场供应及管理、维保服务。华邦人一直坚守信誉和品质，以开发世界一流纯化器为己任，不断开拓进取，与伙伴共进。

企业文化

公司理念

信誉、品质、开拓、共进

信誉：商德唯信，利末义本。坚守信誉为华邦根本理念。

品质：精益求精，追求卓越，注重品质为华邦首要理念。

开拓：致力于高纯化学领域，开拓进取为华邦发展理念。

共进：与员工共同成长，与伙伴共进步，为华邦回馈理念。

产品介绍产品特点：

1.采用催化，吸附、Getter等技术联用，保证气体纯化指标。

2.拥有自主知识产权核心催化剂，稳定性强，脱除深度高。3.稳定性强，全自动运行维护量少。4.抗意外能力强，短时间断水、断电不影响产气指标。5.再生周期长，可实现不间断产气，在线维修。6.填料容量大，抗波动能力强。原料杂质少量波动无影响。9N纯化器分类介绍：

PH8系列——氮气纯化器

▲PH8-N?Purifier

单项杂质脱除均1ppb

设备简介：

气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O?、H?O、CO?、CO、H?、等杂质。吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用。多柱交替吸附、再生、可实现对气体的连续纯化。

典型应用：

半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：

器件制备工艺中外延、扩散、MOCVD、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序设备所需的N?、H?、Ar、NH?等气体进行纯化。

光纤行业：对保护氮、氦气进行终端纯化。

气体行业：对气源气体进行纯化。

冷轧行业：对保护氮气进行纯化。

化工行业：对氮、氢、气/液相烃类脱O?、H?O纯化。

PH9——氮气纯化器

▲PH9-N?Purifier

单项杂质脱除均1ppb

设备简介：

气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH?（包括H?、CO）与O?反应转化为H?O和CO?。

气体然后通过多柱吸附工序深度脱除气体中的O?、H?O、CO?等杂质。吸附柱附饱和后可通氢加热再生，反复使用。多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。

典型应用：

半导体、LED、激光、太阳能光伏行业：

器件制备工艺中外延、扩散、MOCVD、离子注入等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序中设备所需的超纯氮气终端纯化。

光纤行业：保护氮、氦气的终端纯化。

气体行业：对气源气体进行纯化，零点气的制备，6N高压钢瓶气的生产。

PH7——氢气纯化器

▲PH7-H?Purifier

单项杂质脱除均1ppb

设备简介：

PH7-H:通过吸附工序，脱除气体中的O?、H?O、CO?等杂质，通过吸气柱脱除N?、CH?。

PH7-A:气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O?、H?O、CO?、CO等杂质。吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用。多柱交替吸附、再生、可实现对气体的连续纯化。

典型应用：

用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：

在器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工艺所需超纯氢气、氩气体终端纯化。

气体行业：对气源气体进行纯化、零点气的制备，6N高压钢瓶气的生产，超纯氪、氙、氦气生产。

PH6系列——氧气纯化器

▲PH6-O?Purifier

单项杂质脱除均1ppb

设备简介：

气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH?（包括H?、CO）与O?反应转化为H?O和CO?。气体然后通过多柱吸附工序深度脱除气体中的H?O、CO?等杂质。吸附柱附饱和后可通氧加热再生，反复使用。多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。

典型应用：

半导体、LED、激光、太阳能光伏行业：

器件制备工艺中热氧化、扩散、MOCVD、等离子干刻等工序所需的超纯O?终端纯化。

光纤行业：光导纤维所需O?的纯化。

气体行业：对气源气体进行纯化，标气、零点气的制备。

PH5系列——氩气、氦气纯化器

▲PH5-Ar/HePurifier

单项杂质脱除均1ppb

设备简介：

PH5-H:通过吸附工序，脱除气体中的O?、H?O、CO?等杂质，通过吸气柱脱除N?、CH?。

PH5-G:气体通过高温状态下的吸气柱，可深度吸收脱除气体中的O?、H?O、CO?、CO、H?、CH?、N?等杂质。吸气柱吸附饱和后，整体更换。

PH5-A:气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O?、H?O、CO?、CO、H?、等杂质。吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用。多柱交替吸附、再生、可实现对气体的连续纯化。

典型应用：

用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：

在器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工艺所需超纯氢气、氩气体终端纯化。

气体行业：对气源气体进行纯化、零点气的制备，6N高压钢瓶气的生产，超纯氪、氙、氦气生产。

PH21系列——氨气纯化器

▲PH21-NH?Purifier

单项杂质脱除均1ppb

应用领域：

纯化用于第三代半导体、LED应用的氨气。

工艺介绍：

PH21氨气纯化器通过吸附工序，采用双吸附容器，深度脱除工艺气体中的O?、H?O、CO?、NMHC，纯化再生模式交替进行，提供对工艺气的连续纯化。

PH21系列氨气纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性。

低成本及高性能，有效的脱除NH?中的污染杂质，满足客户现场需求。

PH22系列——XCDA纯化器

▲PH22-XCDAPurifier

单项杂质脱除均1ppb

应用领域:

纯化用于半导体应用的XCDA

工艺介绍：

采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的H?O、CO?、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、总有机碳TOC等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。

PH22系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CDA中的污染杂质，满足客户现场需求。

PH32/33系列——二氧化碳纯化器

▲PH32/33-CO?Purifier

单项杂质脱除均1ppb

应用领域：

纯化用于半导体应用的二氧化碳

工艺介绍：

PH32系列采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的。上表中杂质CH?、O?、H?O、H?、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。

PH32系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CO?中的污染杂质，满足客户现场需求.

PH33系列气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH?、还原性杂质与O?反应转化为H?O和CO?；

气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的CH?、O?、H?O、H?、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质；

吸附柱饱和后可通还原性气体加热再生，反复使用；

多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。

Q9系列——POU纯化器

适用气体：N?、Ar、H?、He、O?、XCDA、CH?、C?H?、Cl?、NH?

脱除深度1ppb

流量：0.1～L/min；20～Nm3/h

典型应用：

电子行业生产线及研发过程：气体纯化。

化工研究:烃类、N?、H?纯化。

分析：色谱载气纯化、测氧仪、露点仪的零点较对。

焊接：保护氩气纯化

联系方式

大连华邦化学有限公司

服务--/

邮箱：hpc

hpcdl.

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