当前位置： 扩散器 >> 扩散器市场 >> 全息压印技术在平面液晶光学器件批量生产中
平面液晶(LC)光学器件最近作为一种新的全息光学元件(HOE)广受欢迎。平面LC光学器件展示了独特的特性，例如偏振选择性、动态调制以及大的角度带宽和光谱带宽，以及像经典HOE一样记录和重建任意波前的能力.
这些优势，再加上其超薄的外形和卓越的效率，使平面液晶光学器件成为下一代头戴式屏幕的引人注目的选择，例如增强现实(AR)和虚拟现实(VR)，它们寻求高画质、轻巧和紧凑的外形尺寸。
然而，要使这项技术得到广泛应用，必须认真研究大规模生产的问题。对于全息曝光，迄今为止，最常见的平面LC光学元件生产过程依赖于实验室规模的干涉仪。这一过程对于生成厘米大小的样品效果良好，但它却有着无法大批量生产的瓶颈。此外经常用于波导投影的衍射光学器件--表面浮雕光栅（SRG）也得益于大规模制造的纳米压印技术。
纳米压印通常使用高精度光刻技术（例如电子束光刻）来创建母版，然后复制该母版。尽管这种方法存在某些缺点，例如母板寿命短和复制精度高，但其高性能的主要优势已导致SRG波导显示器的早期成功。
由中佛罗里达大学光学与光子学院的Shin-TsonWu教授领导的一组研究人员开发了一个令人兴奋的概念，称为“全息压印”，以实现平面LC光学器件的光学复制。
由于其非接触特性，这种方法不仅说明了大规模制造的可行性，而且消除了对母版寿命和压印质量的担忧。该研究发表在《光：科学与应用》杂志上。
传统的HOE使用光强度调制来创建图案化条纹，从而导致分子扩散。另一方面，平面LC光学器件使用称为光对准的图案记录过程，该过程通常用于商业LCD设备，例如智能手机和电视。相反，光取向分子对偏振光特别敏感，尤其线偏振可以产生最佳的取向质量。
全息曝光技术需要产生高质量的线性偏振场。为了产生线性偏振场图案，传统的干涉测量方法使用两个具有相反旋向（左和右）的圆偏振光束。
然而，Wu的团队在他们的研究中发现，两个具有相同旋向性的圆偏振光束也可以产生显着的线性偏振场，但它们必须从相反的方向入射到记录样本上。
最近创建的反射式平面LC光学器件完全符合这一标准。这种反射型液晶光学元件由胆甾型液晶制成，可自组装并产生稳定的螺旋结构。只有与螺旋具有相同旋向的圆偏振光束被反射。反射光的偏振条件与入射光相同。
Wu的团队根据这种方法对这一概念进行了经验测试，并制造了样品，包括具有高光学质量的光栅和透镜。验证的样本大小约为5厘米。然而，研究人员指出，通过添加激光扫描或多区域曝光等技术，他们可以轻松扩大模板尺寸。
